| | Expoziční systém EXPOSystém EXPO je určen pro řízení elektronových litografů řady BS600, BS601 a BS601M.
Jeho základem je hardwarový modul na bázi hradlového pole Xilinx Virtex 4, doplněný o 3 páry rychlých 16 bitových D/A převodníků a blok 8 bitových FLASH A/D. Přes 1 Gb připojení Ethernet komunikuje s nadřazením počítačem, na kterém běží expoziční program EXPO.
| Parametry expozičního HW: | Xilinx Virtex 4, 1Gb Ethernet
| | Maximální velikost expozičního pole: | 3100 x 3100 um
| | Krok vychylovacích 16 bit D/A převodníků: | základní 50 nm, jemné převodníky 2,5 nm
| | Maximální velikost tvarovaného razíka: | 6.3 x 6.3 um
| | Krok tvarovacích D/A převodníků: | 0,1 nm
| | Vstup videosignálu: | 8 bit FLASH A/D (blok REM EXPO)
| | Vstup z laserových interferometrů: | 2 x 2 kanály 8 bit FLASH A/D |
Program EXPOProgram EXPO pracuje s expozičními daty ve formátu .ASB rozšířeném o příkazy pro expozice bitmap a pravidelných mřížek. Umožňuje převzetí expozičních dat z jiných programů (G-MASTER) nebo jejich vytváření pomocí výkonného editoru. Součástí programu je grafický simulátor expozice včetně zobrazení veliosti expoziční dávky.
Program generuje příkazy pro řídicí systém stolu, stuktury popsané ve formátu .ASB rozkládá na jednotlivá razítka ve formátu souřadnice x,y, rozměry a,b a expoziční čas a posílá do expozičního hardware.
V režimu REMEXPO provádí vizualizaci požadované oblasti (například hledání značky), další speciální režimy slouží ke kalibraci přístroje, sešívání expozičních polí a soukrytování expozic. Nechybí bohaté knihovny standardních prvků, od běžných obdélníků až po Fresnelovy čočky.
 Vychylovací zesilovače DEFLRychlé vychylovací zesilovače DEFL jsou určeny pro napájení vychylovacích cívek elektronových litografů řady BS600, BS601, BS601M. Jedná se o rychlé proudové zdroje řízené napětím, například výstupy z modulu EXPO.
Dynamické vlastnosti vychylovacích zesilovačů byly optimalizovány s ohledem na četnost přesunů svazku při běžné expoziční strategii.
| Rozsah proudového zdroje: | +/- 3.3A
| | Řídicí napětí: | 0-10V (výstup EXPO)
| | Výkonové členy: | Tranzistory MOSFET (no storage time)
| | Proudové rozlišení: | 1 LSB=100uA
| | Settling time: | 600ns/10mA
| | Referenční nízkoindukční rezistor: | 250W, stabilita 1ppm/°C
| | Chlazení: | termostatovaná voda |
Program FresnelProgram generuje expoziční data pro vytváření Fresnelových čoček definovaných rozměrů a parametrů. V současné době je k dispozici jako knihovní prvek systému EXPO.
Program G-MASTERProgram G-MASTER generuje expoziční data pro vytváření mřížek definovaných vlastností.
Řídicí systém litografického stolu STGSystém pro řízení krokových motorů x,y stolu, výměnu waferu a vakuových ventilů je zabudován spolu s výkonovou elektronikou do samostatné 19" jednotky. Tato jednotka pak přijímá povely z nadřízeneho počítače (například z programu EXPO).
Součástí jednotky jsou karty pro příjem signálů z laserových interferometrů.
| |
